離子束切割儀用于樣品的截面制備及平面拋光，用于掃描電子顯微鏡 (SEM)、微觀結(jié)構(gòu)分析 (EDS、WDS、Auger、EBSD) 和 AFM 科研工作。

 

Leica EM TIC 3X 通過(guò)離子槍激發(fā)獲得的離子束，以垂直于樣品側(cè)面縱向轟擊樣品，可獲得高質(zhì)量無(wú)應(yīng)力“切割"截面，便于SEM觀察。該處理方法適用于多層膜材料、軟硬復(fù)合材料等高難度制備樣品，并且操作簡(jiǎn)單，可有效避免涂抹效應(yīng)，不需要大量摸索條件即可獲得理想的截面，使樣品暴露內(nèi)部細(xì)微結(jié)構(gòu)信息。

 

徠卡離子束切割儀主要技術(shù)參數(shù)：

 

1.可容納zui大樣品尺寸50×50×10mm，可獲得有效切割截面面積＞4mm×1mm

2.三把離子槍，離子束能量1keV-10keV，切割速率300μm/h (Si@10kV, 3.5mA, 100μm切割高度)

3.離子束處理過(guò)程中樣品位置固定，無(wú)需偏轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)，無(wú)投影效應(yīng)，熱傳導(dǎo)性好

4.可進(jìn)行離子束切割或刻蝕，可選擇任意離子槍

5.真空泵解耦合設(shè)計(jì)，無(wú)震動(dòng)傳導(dǎo)

6.觸摸屏操作面板，直觀、簡(jiǎn)易操作，可編程可軟件升級(jí)

7.可選配：液氮制冷冷臺(tái)+30至 -160℃，25L液氮罐及自動(dòng)泵，具有自動(dòng)快速制冷功能

8.可選配：三樣品臺(tái)，可一次連續(xù)處理三個(gè)樣品